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这两天在忙活公司营业执照年审，所以更新可能有点不正常，还请谅解。
实际上，在前世tft－lcd液晶面板生产线中应用的cvd技术和设备最多的是pecvd，也就是等离子增强化学气相沉积法，因为无论是常压化学气相沉积法，还是低压化学气相沉积法，在实际应用中的用处都不是很大，这主要是因为后世的tft－lcd液晶面板所用的玻璃基板大都是碱性玻璃的缘故，因为无论是常压化学气相沉积法还是低压化学气相沉积法，在镀膜的时候都不适用于碱性玻璃，虽说在前几代线的时候还能用得上，但随着技术的不断发展，这两种cvd技术的局限性就凸显了出来，毕竟这两种技术只能单独的针对某一个镀层，因此在后几代线中，这两种cvd技术和设备基本上就用不到了
而等离子增强化学气相沉积法则没有这种局限性，最关键的是，这tft－lcd液晶面板制程中所需要的四层非金属镀膜，都能够用pecvd来解决，因此在前世，5代线之后的cvd设备，大都是采用pecvd技术而制造的cvd设备了。
当然在目前，除了李想知道这个事情之外，其他的人还并不知道这种事情，因此包括曰本人在内，都认为这三种cvd技术是必不可少的。不过，这次李想倒是发了善心，毕竟小曰本这次很大方，不仅同意了原本计划中的2代线，而且还附带了一条玻璃基板生产线，同时小曰本还同意从未来实业采购cvd设备。最关键的是，据李想所知，小曰本在得到了那三套cvd技术之后，立刻就开始组织相关人员进行技术攻关，试图自己来制造cvd设备，只不过小曰本似乎并不知道pecvd才是最关键的设备，因此他们是三种设备一起研发，导致了整体研发进程的缓慢。
技术是技术，要把技术转化成为真正的产品，并不是那么容易就能做到的。
正是因为如此，李想才难得的发了一次善心，打算直接将pecvd设备卖给小曰本。毕竟以小曰本的实力而言，早晚也会发现其他两种cvd技术的不足之处，从而开始专心钻研pecvd技术。这是早晚的事情，不过再晚，小曰本也会走到前世的道路上去的。[看本书最新章节请到]
前世世界上最大的两家cvd设备制造商，一个是美国应材公司下属的曰本子公司akt,一个也是同样来自于曰本的曰本真空技术株式会社，也就是ulvac。173这两个
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