不过对矩芯一号，却不能用传统的眼光去看待。173∮∮diǎn∮小∮说，..o
一方面，全新的指令集、编译器再配备新概念的aros系统，并不需要p的运行速度有多快，但是却要求p具备一定的模糊计算能力。
从这一diǎn上看，4核1.0的计算能力已经足够用了。
另一方面，矩阵半导体也受限于合作方中芯国际的代工水平影响。
由于龙芯此前与中芯国际有过多次合作，双方关系良好，因此矩阵半导体依旧是借用龙芯此前的合作渠道。
而中芯国际目前所能提供的最好制程为40纳米，和市面上出售的28纳米的高通芯片芯片有着一定的差距，还好这对矩芯号影响并不大。
最重要的是，如果采用28纳米的制程的话，矩芯一号的成本也将会提高百分之五十左右，这才是乔振宇最终选择40纳米制程的真正原因。
这里，我们就不得不提一下制程工艺的话题。
所谓的制程工艺，指的是晶体管在硅片上的大小。
众所周知，晶体管是组成芯片的最小单位，一个与非门需要4个晶体管组成，一般一个ar四核芯片上有5亿个左右的晶体管。
世界上第一台计算机用个是真空管，效果和晶体管一样，但是真空管的大小有两个拇指大，而现在实验室里最先进的蚀刻工艺所刻蚀的晶体管只有14纳米大小。
想要在在一个15*15的正方形硅片上制作出5亿个大小为40纳米大小的晶体管。173如果要用机械的方法完成这一过程，世界上很难有这么精密的仪器，可以雕刻出纳米级的晶体管。就算有，要雕刻出5亿个。所需要的成本、时间也是难以估计的。
因此，工程师们只能借助光的力量。
这就是光刻机的由来。
光可以在硅片上蚀刻下痕迹。掩膜就可以控制硅片上哪些部分会被蚀刻。掩膜覆盖的地方，光照不到，硅片不会被蚀刻。
硅片被蚀刻后，再涂上氧化层和金属层，再蚀刻，反复多次，硅片就制造好了。
一般来说，制作硅片需要蚀刻十几次，每次用的工艺、掩膜都不一样。
几次蚀刻之间。蚀刻的位置可能会有偏差，如果偏差过大，出来的芯片就不能用了，偏差需要控制在几个纳米以内才能保证良品率，所以说制作硅片用的技术是人类目前发明的最精密的技术。
芯片可以靠掩膜蚀刻批量生产，但是掩
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